真空在鍍膜工業(yè)中的使用
真空鍍膜技能是真空使用技能的一個首要分支,它已廣泛地使用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā),理化儀器、修建機 械、包裝、民用成品、外表科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。
真空鍍膜所選用的辦法首要有蒸騰鍍、濺射鍍、離子鍍、束流堆積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相 堆積法。
假如從真空鍍膜的意圖是為了改動物質(zhì)外表的物理、化學(xué)功能的話,這一技能又是真空外表處理技能中的首要組成部分,其分類如表 6 所示。
現(xiàn)就其幾個首要使用方面做一簡略介紹。首先在光學(xué)方面,一塊光學(xué)玻璃或石英外表上鍍一層或幾層不一樣物質(zhì)的薄膜后,即可變成高反射或無反射(即增透 膜)或許作任何預(yù)期份額的反射或透射
資料,也能夠作成對某種波長的吸收,而對另一種波長的透射的濾色片。
高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開端、 一直到新式修建物的大窗鍍膜茉莉,都很需求。增透膜則很多用于照相和各種激光器開端、
一直到新式修建物的大窗鍍膜玻璃,都很需求,增透膜則很多用于照相機 和電視攝象機的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為首要的位置。
各種規(guī)劃的承繼電路。包含存貯器、運算器、通知邏輯元件等都要選用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保 護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。
磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器,約瑟夫遜器材、電荷耦合器材( CCD )也都甬道各種薄膜在顯現(xiàn)器材方面,錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯現(xiàn)裝置的通明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯現(xiàn)管熒光屏
的鋁襯等也都是選用真空鍍膜法制備。在元件方面,在真空中蒸騰鎳鉻,鉻或金屬陶瓷能夠制作電阻,在塑料上蒸騰鋁、一氧化硅、二氧化鈦等能夠制作電容器,蒸騰硒能夠得到靜電復(fù)印機用的
硒 鼓、蒸騰鈦酸鋇能夠制作磁致彈性的起聲元件等等。
真空蒸騰還能夠用于制作超導(dǎo)膜和慣性束縛劇變反使用的微珠鍍層;此外還能夠?qū)χ閷?、掛鐘外殼外表、紡織?nbsp;金屬斑紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝修用薄膜,以及選用濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等制作超硬膜。
近兩年內(nèi)所鼓起的多弧離子鍍制備鈦金成品,如不銹鋼薄板、鏡面 板、包柱、扶手、高級床托架、樓梯欄桿等現(xiàn)在正在盛行。
表 6 真空外表處理技能的分類
| 外表處理意圖 | 處理辦法 | 粒子運動能量 | 工作方法 | ||
| 等離子體 | 高真空 | ||||
| 薄膜堆積(外表厚度添加) | PVD | 真空蒸騰鍍膜 | 0.1~1ev | 等離子熔射輝光放電分化 |
電阻加熱蒸騰 加子束蒸騰 真空電弧蒸騰 真空感應(yīng)蒸騰 分子束外延 |
| 蔗農(nóng)濺射鍍膜 | 10~100ev |
放電方法:直流、溝通、高頻 電極數(shù)值: 2 級、 3 級、 4 級 反響濺射、磁控濺射、對向靶濺射 | 離子束濺射鍍膜 | ||
| 真空離子鍍膜 | 數(shù) 10~5000ev |
直流二級型 多陰極型 ARE 型、增強 ARE HCD 型 高頻型 |
單一離子束鍍膜 集團離子束鍍膜 | ||
| CVD | 化學(xué)反響熱擴散 | 等離子增強化學(xué)氣和堆積( PCVD ) |
低壓等離子化學(xué)氣相堆積 ( LPCVD ) | ||
| 微細(xì)加工(外表厚度削減) | 離子刻蝕 | 數(shù)百 ev~ 數(shù) kev |
高頻濺射刻蝕 等離子刻蝕 反響離子刻蝕 |
離子束刻蝕 反響離子束刻蝕 電子束刻蝕 X 射線曝光 | |
| 外表改性(不改動外表厚度) | 離子注入 | 數(shù) kev~1000kec | 活性離子沖擊離子氮化 | 離子注入 | |
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